Новая Маска Quiksilver hubble mirror в Пензе

Технические характеристики: Устойчивый к царапинам фильтр на 100% защищает от ультрафиолетового излучения (блокирует вредное UVA, UVB, UVC излучение, а также ультрафиолетовое излучение до 400 NM). Сферическая линза (160*), выполненная по технологии High-Definition. Антиударная и устойчивая к царапинам низкопрофильная оправа PU (органический полимер). Перфорация линз для улучшенной вентиляции. Технология антизапотевания Quiksilver Anti-fog. Перфорация на линзах для вентиляции. Тройное флисовое покрытие гибкой оправы для дополнительного комфорта. Оптимизирована для средней и широкой формы лица. Мягкая флисовая сумочка для защиты маски при ношении.